仪器名称：200KV 场发射扫描透射电子显微镜（含能量损失谱仪）
规格/型号：赛默飞Talos F200X
生产厂商：赛默飞世尔科技公司
放置地点：厦门校区泛华科技大楼A108-110
负责人：张俊玉，王秋祥；电话：0592-6161598，邮箱：iac@hqu.edu.cn
一、主要应用：
场发射透射电镜具有衍衬成像、高分辨成像、Z衬度成像、电子衍射、能谱分析和三维重构等多种功能。它能对各种材料内部微结构进行观察（粉末、纳米颗粒形貌和粒径观察）；对选区电子衍射和晶体结构分析（金属、陶瓷、半导体、塑料等显微结构分析）；配合能谱仪可以对样品元素做面分布分析，以及各种元素进行定性和半定量微区分析。因此，在化学、材料科学、地质研究等领域得到了广泛的应用。
二、性能指标：
1.加速电压: 200 KV；
2.加速电压稳定度：≤ 0.8ppm/10min；
3.电子枪类型：X-FEG超高亮度场发射电子枪；
4.最小能量分辨率：≤ 0.8eV；
5.点分辨率：0.25 nm；
6.信息分辨率：0.12 nm；
7.分辨率：0.16 nm；
8.线分辨率：0.14 nm；
9.样品倾斜角度X/Y：±30°；
10.EDS探测器有效探测面积 ≥120 mm2；
11.能谱能量分辨率：136 ev；
12.装CMOS相机：1600万像素及14 mm*14 mm像素尺寸；
13.能量损失谱仪：DigiScan II数字化电子束控制，实现STEM-EELS功能；
14.元素检测范围：B～U元素；
三、测试要求：
1. 透射电镜不能直接观察含有铁钴镍元素的样品，请包埋切片或FIB切片后，做TEM实验；
2. 透射电镜能够观察200 nm以下的样品；
3. 对于粉末和液体样品，要求样品均匀分散在支持膜上并且干燥，能够区分正反面；
4. 对于块体样品，要求样品大小为直径3 mm的圆，厚度为200 nm以下；
5. 高分辨样品要求厚度在10 nm以下。
